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THERMAL NIL 桌面式納米光柵熱壓印機  

THERMAL NIL 桌面式納米光柵熱壓印機
NIR-MFD-S-SM-2  NILT CNI 實驗用納米熱壓印機是專為實驗室和研發(fā)機構設計和開發(fā)的簡單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設備,用戶可以通過CNI設備高效、低成本地實現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝,許多知名的研發(fā)機構均購買了CNI的設備和NILT CNI熱壓設備。


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產(chǎn)品型號 1
貨號 操作 名稱
H80050007  桌面式納米光柵熱壓印機 CNI-V2.1   [PDF] 熱零點高達240攝氏度;UV NIL@365nm;壓印壓力 0.3至11Bar;真空壓?。?mbar);納米硅片和基板尺寸 高達200 mm    價格 : 請聯(lián)系客服 庫存/貨期:請咨詢客服
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NIR-MFD-S-SM-2  NILT CNI 實驗用納米熱壓印機是專為實驗室和研發(fā)機構設計和開發(fā)的簡單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設備,用戶可以通過CNI設備高效、低成本地實現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝,許多知名的研發(fā)機構均購買了CNI的設備和NILT CNI熱壓設備。

產(chǎn)品特點

● 占地小、操作簡便

● 可實現(xiàn)高質量的圖形復制

● 可實現(xiàn)納米熱壓設備的一切功能,而無需昂貴的工藝設備。

產(chǎn)品應用

● 在硅片上制作納米級光柵

● 壓印易碎的材料(例如III-V族材料)

● 微結構加工

● 制作壓印印章

● 保護母版的適用壽命

● 熱壓高深寬比結構圖形

技術參數(shù)

THERMAL NIL 主要性能指標:

● 集成控溫卡盤,可對溫度進行測量、控制

● 可適用于100mm(4 英寸以下)所有尺寸和形狀的壓印模板。

● 可適用于Silicon, Quartz, Nickel and Polymer materials

● 壓印程序可進行編程

● 適用所有熱壓印材料

● 設備可用于復制壓印母板

● 壓印溫度可達200 攝氏度

● 壓力范圍:1‐10 bar

● 壓印精度:40nm 或更好 (可完成工藝驗收)

● 將模板加熱和溫度測量集成與壓印載盤上

● 載盤適用于易碎襯底

● 快速升溫,快速降溫,擁有技術上認可技術的卡盤設計,可保證快速升溫、降溫并保持良好的溫度均勻性。20℃‐130℃‐70℃少于8 分鐘

● 提供COC 有機聚合物中間層軟膜(先進的母板復制工藝),耗材及工藝培訓

● 提供壓印相關材料

● 提供工藝培訓和支持

2.jpg

壓印程序可進行編程(溫度、壓力、時間)

3.jpg


壓印實例

   


    


聚合物中間層工藝

NIL TECHNOLOGY ApS (NILT)高分子聚合物中間層壓印技術可以實現(xiàn)納米壓印/熱壓印非平面化的壓印,同時高分子聚合物中間層的熱塑彈性材料實現(xiàn)納米結構的轉移和復制??杀Wo昂貴的母板因多次轉印而損壞,同時用于母板的復制。

  


  


NIL TECHNOLOGY ApS (NILT) 部分應用實例:

1、仿生應用用于制作昆蟲眼部六角結構

  

2、微型注射針頭結構

  

3、方形結構陣列500nm

4、分布式反饋激光器,240nm光柵結構

5、磷化銦(InP),突出高度:112 nm

 










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